
Αρχική
Study of dielectric deposition in two-dimensional semiconductors by the method of atomic layer deposition
Αποτελέσματα - Λεπτομέρειες
|
||||
Κωδικός Πόρου | 000446157 | |||
Τίτλος | Study of dielectric deposition in two-dimensional semiconductors by the method of atomic layer deposition | |||
Άλλος τίτλος | Μελέτη εναπόθεσης διηλεκτρικού σε δισδιάστατους ημιαγωγούς με τη μέθοδο εναπόθεσης ατομικών στρωμάτων | |||
Συγγραφέας | Φανουράκης, Γεώργιος | |||
Σύμβουλος διατριβής |
Σαββίδης, Παύλος
Δεληγεώργης, Γεώργιος |
|||
Μέλος κριτικής επιτροπής | Κιοσέογλου, Γεώργιος | |||
Φυσική περιγραφή | 78 σ. : είκ.(μερ. εγχρ.) ; 30 εκ. | |||
Γλώσσα | Αγγλικά | |||
Θέμα | 2D materials | |||
High-K dielectrics | ||||
Ημερομηνία έκδοσης | 2022-03-18 | |||
Συλλογή | Σχολή/Τμήμα--Σχολή Θετικών και Τεχνολογικών Επιστημών--Τμήμα Επιστήμης και Τεχνολογίας Υλικών--Μεταπτυχιακές εργασίες ειδίκευσης | |||
Τύπος Εργασίας--Μεταπτυχιακές εργασίες ειδίκευσης | ||||
Εμφανίσεις | 376 |
Ψηφιακά τεκμήρια | |
---|---|
![]() |
Κατέβασμα Εγγράφου |